SUN-2100N适用于功率器件制造过程中保护铝等金属基底。功率器件制造过程中需要腐蚀铝等金属薄层，传统工艺中使用二甲苯光刻胶。这类光刻胶不仅有毒性，而且在使用过程中产生大量有机废液。石油醚闪点为-20 °C，被用做显影液，存在燃爆风险。浓硝酸通常被用来剥离KTFR，是一个安全隐患。SUN-2100N由星泰克自主创新发明，完全无毒，可以有效保护铝等金属基底。SUN-2100N使用标准TMAH（2.38%）显影，纯水定影，既环保又安全。有机溶剂取代浓硝酸剥离光刻胶。