星泰克成功开发出一系列用于纳米压印的光刻胶，产品性能稳定，容易脱模。 SUN-1600N系列纳米压印光刻胶，具有良好的流动性、高填充性、高感光性、高产出率，及高刻蚀比等特点。i-线和g-线紫外光均可固化，可广泛应用于图形化蓝宝石衬底、集成电路、生物传感器、微纳光学器件等工艺制程。