SUN-502P 紫外正性光刻胶，是星泰克专利技术，主要特点为耐干法刻蚀性能好，120℃ 坚膜不变形。适合于深刻蚀工艺，比如 7 微米以上的氮化镓刻蚀。SUN-502P 采用安全性溶剂。

SUN-100P 系列紫外正性光刻胶采用安全溶剂，具有曝光灵敏度高、对比度高、分辨率高、光刻成品率高以及良好的工艺宽容度等诸多优点。配方按 i- 线和g- 线光刻优化，金属离子浓度在 20ppb 以下，可广泛应用于 0.35μm 及以上线宽的IC 及相关半导体制造工艺。

适合于碱性显影液显影，采用安全溶剂，具有对比度高、分辨率高、附着性佳、易于去除以及良好的工艺宽容度等诸多优点，是lift-off制造工艺的专用光刻胶。

SUN-125PSS紫外正性光刻胶系列有两款产品，分别按i- 线、g- 线光刻优化，具有曝光灵敏度高、陡直度高、分辨率高、蚀刻对比度高、光刻成品率高以及良好的工艺宽容度等诸多优点，是图形化蓝宝石衬底—PSS 干法与湿法蚀刻工艺专用光刻胶。