SUN-5021P是一款星泰克创新耐刻蚀光刻胶，刻蚀比可以达到0.875（胶:GaN = 4.2:4.8)，适合于深刻蚀工艺。SUN-5021P适用于i-线或汞灯全谱曝光，显影后侧边夹角为50-60°，满足客户对图形坡度的要求。