SiResist^®是星泰克在全球范围的创新技术，首次实现了以硅作为光刻胶的主要组分。SiResist^®硅含量高达40%，可以作为bilayer光刻胶而实现深刻蚀。 SiResist^®技术适应于365nm、248nm 和193nm光刻，SUN-SiPR365a是一款i-线硅光刻胶。